Комбинированная высоковакуумная установка плазменного магнетронного напыления с тремя 3“ оголовками (источниками/мишенями) DC/RF-плазмы для нанесения однослойных или многослойных пленок материалов, таких как различные сплавы, сегнетоэлектрики, полупроводники, керамика, диэлектрики, оптические покрытия, PTFE…
Назначение — магнетронное напыление: металлических покрытий при использовании DC –источника; неметаллических покрытий при использовании RF-источника
Подложки: пластины диаметром до 4″. Ручная загрузка-выгрузка подложек
Один вращающийся со скоростью от 1 до 20 об/мин 140-мм нагреваемый керамический держатель с оболочкой из нержавеющей стали
Нагреватель держателя до температуры 500°С (не более 2 часов) с точностью поддержания температуры ±1°С
Опционно: держатель с нагревом до температуры 800°С без вращения
Источники плазмы: RF-генератор 13,5 МГц, 300 Вт для напыления непроводящих слоев; DC-источник до 600 В, до 500 Вт для напыления металлических слоев
Три 2″ оголовка магнетронного распылителя с системой водяного охлаждения
Процессная вакуумная камера из нержавеющей стали размерами: ø 300 мм х 300 мм с двумя смотровыми окошками ø 100 мм из стекла (одно – фиксированное, второе – съемное для ремонта и очистки), крышка на шарнире с пневматическим приводом для облегчения замены мишеней
Установка укомплектована водяным чилером с цифровым контроллером: температура от 5 до 35°С, расход до 16 л/мин, давление 1 бар
Установка укомплектована вентилем, специальным фланцем и вакуумной станцией, состоящей из двухступенчатого вакуумного механического насоса (220 л/мин) и высокоскоростного турбовакуумного насоса, обеспечивающего вакуум менее 4 х 10-5 торр (с использованием нагрева для обезгаживания — 1 х 10-6 торр)
Три прецизионных контроллера массового расхода газа обеспечивают потоки от 0 до 200 мл/мин и от 0 до 100 мл/мин для двух типов газов с контролем на сенсорном экране
Опционно: двухступенчатый регулятор давления на газовый баллон с аргоном чистотой более 5N; прецизионный измеритель толщины пленки, спектрометр для анализа пленок
Мишени: в состав установки входят 1 мишень из сверхчистой нержавеющей стали ø2″ х 0,3 мм и 1 мишень из 99,99% Al2O3 ø2″ х 2 мм. Опционно: мишени ø2″ из высокочистых оксидов и металлов
Электропитание: 220В, 50/60Гц, 1ф, 2000Вт (включая насос и чилер)